电解抛光和流体抛光，在效果上到底有什么←不同，我做了一个实际的对比验证，一起来看一下！

我们从两个方面做【了对比，一是视觉亮度，二是粗糙度和纹路去除。

首先我们○看视觉亮度。

最左边这个↓是没有抛光的，然后中间这个是电解抛光的，它的整个亮度和透彻感，都是非√常棒的。然后右边这个是流体抛光的，从亮度上来讲，不如电解抛々光，这是电解抛光最出色的地方。

然后我们再对比粗糙度和纹路去∞除。

首先左边的是没有抛光的内壁状态；再看，中间这个是电解抛光后的内壁状态，纹路Ψ小了很多，但是还是有比较明显的纹路。最右边这个是流体抛光的，已经没有明◥显纹路了，从粗糙【度和纹路去除这点来讲，流体抛光更强大。

由此可以得出结论：流体抛光可以去除更深「的纹路，而电解抛光则更擅长提升金属亮度。而这只是表层原因，更∩深层次的原因是，电解抛光更适合去除很细▆微的纹路和颗粒，在微观表面可以取得更好的抛光★效果。而流体抛光则可以去除更大的纹路和颗粒，在更大面ζ积范围内，可以取得更好的抛光效果。电解抛光可以在流体抛光基础上，更进一步降低粗糙度。而流体抛光可以在电解ζ抛光之前，去除ω　纹路及粗糙颗粒。一般来讲，如果是Ra0.6的粗糙度，可以先用流体抛光至Ra0.2以下，然后再用电解※抛光至Ra0.03-0.05。

所以，现在越来越多的对内壁要求较高的零件，如隔膜阀等，会先用流体抛光，再用Ψ电解抛光，将这两种工艺结合起来，使内壁抛光达到一个非常低的粗糙度。